气体类型 | H2 | O2/Ar | N2 | CH4 | CO | CO2 | H2O | 单位 |
原料气 | 0.074 | <0.01 | 0.248 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | 未测试 | ppm |
纯化后 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.033 | ppm |
气体种类 | 产品用途 | 应用领域 |
He | 稀释气纯化 | 半导体制造业中光刻、干刻、化学气相沉积工艺中混合气 |
Ar | 等离子体气体、载气纯化 | 半导体制造业中干刻蚀、离子注入等 工艺中等离子体气体,直读光谱仪载气 |
N2 | 稀释气、检漏气纯化 | 半导体制造业中稀释氧化工艺、气体浓度调节、检漏气体 |
H2 | 还原气、反应气纯化 | IC、LED 等制造业中外延工艺和扩散工艺气体 |